微波等离子化学气相沉积（MPCVD）系统
| 微波等离子化学气相沉积（MPCVD）系统 —— C型 一款先进的碟形腔体微波等离子体化学气相沉积设备，可应用于单晶金刚石和多晶金刚石薄膜、类金刚石薄膜的化学气相沉积以及材料表面处理、改性及掺杂等相关研究工作。 微波输入采用下馈的方式，为腔体结构的优化提供了更大的空间。 该设备可以在相对大面积的衬底上进行单晶和多晶金刚石生长，具备平面和非平面金刚石（HDC）的生长能力。其中，单晶金刚石沉积厚度上限不低于6mm，多晶金刚石沉积厚度上限不低于500μm。 |
性能特点：
֍采用高效散热的样品台 ֍产品沉积速率快、沉积质量高 ֍稳定的微波输入 ֍最大功率达到10kW ֍性能先进，安全、可靠性强、重现性好 ֍多参数实时监测、多重联锁保护与报警 ֍为用户提供沉积工艺解决方案 ֍可实现多步生长工艺编辑，实现流量、温度控制 ֍具备保险装置、报警单元和紧急停机功能 ֍具备远程报警功能 ֍具有冷却水水流量和水温监测和报警功能 |
主要技术参数：
微波源 | 6kW或10kW可选，2.45GHz 功率稳定率优于±1.5%，满负荷反射功率<50W |
| 反应腔 | 碟形反应腔，可承载微波功率＞10kW 标配4个蓝宝石窗口 |
反应腔打开方式 | 揭盖式或升降式，可选 |
| 微波馈入方式 | 腔体下方 |
| 微波泄露 | ＜1mW/cm2 |
机械泵抽速 | 4L/s |
| 分子泵 | 选配，抽速140L/s |
极限真空度 | 不配分子泵:＜5×10-1Pa（3.75×10-3Torr） 配分子泵:＜5×10-4Pa（3.75×10--6Torr） |
真空计精度 | 不配分子泵:＜1×10-1Pa（7.5×10-4Torr） 配分子泵:＜1×10-5Pa（7.5×10-8Torr） |
| 真空漏率 | ＜5×10-10 Pa·L/s |
| 压升率 | ＜20Pa/12h(0.15Torr/12h) |
| 气体质量流量控制 | 标配5路，可定制 |
| 工作气压 | 0.8kPa - 40kPa(6.0Torr-300Torr) |
| 气压控制精准度 | ±0.01kPa(±0.075Torr) |
| 基板台类型 | 铜制水冷基板台 |
| 标准衬底托 | Φ60mm，Φ76.2mm，Φ80mm |
有效沉积直径 | 配10kW微波源:>80mm 配6kW微波源:>60mm |
| 样品台升降功能 | 有，可选 |
| 样品台旋转功能 | 有，可选；
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样品台温控范围 | 室温-1200℃ |
| 红外高温计测温范围 | 300-1400℃ |
| 非平面（球面）金刚石样品台 | 可选 |
系统冷却水水流量 | <45L/min |
| 微波源独立水路 | 可选，<20L/min |
| 操作系统 | PLC控制系统 |
| 单次连续工作时间 | ＞300h |