微波等离子化学气相沉积（MPCVD）系统
| 微波等离子化学气相沉积（MPCVD）系统 —— A型 是一款典型的微波等离子体化学气相沉积装置，进出物料在腔体的侧方，可以在最大60mm直径的衬底上进行金刚石单晶和多晶生长。 应用领域：工具、热沉、光学窗口、宝石等。
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性能特点：
֍最大功率达到6kW ֍微波反应腔新型设计，功率密度大 ֍产品沉积速率快、沉积质量高 ֍采用水冷全金属腔体 ֍采用高效散热的样品台 ֍设备安全性高、耐用性高、可靠性强 ֍多参数实时监测，PLC屏幕控制，简捷的人机交互界面 ֍可实现多步生长工艺编辑，实现流量、温度控制 ֍具备保险装置、报警单元和紧急停机功能 ֍具备远程报警功能 ֍具有冷却水水流量和水温监测和报警功能 |
主要技术参数：
| 微波功率 | 0.6kW －6kW 连续可调 2.45GHz 功率稳定率优于±1.5%，满负荷反射率<50W |
| 反应腔 | 圆柱反应腔，可承载微波功率>6kW 标配4个蓝宝石窗口 |
| 微波泄露 | <1mW/cm2 |
| 机械泵抽速 | 4L/s |
分子泵 | 选配，抽速140L/s |
极限真空度 | 不配分子泵:<5×10-1Pa（3.75×10-3Torr) 配分子泵:<5×10-4Pa（3.75×10-6Torr) |
真空计精度 | 不配分子泵:<1×10-1Pa（7.5×10-4Torr) 配分子泵:<1×10-5Pa（7.5×10-8Torr) |
| 真空漏率 | <5×10-10Pa·L/s |
| 压升率 | <20Pa/12h(0.15Torr/12h) |
| 气体质量流量控制 | 标配5路，可定制 |
| 工作气压 | 0.8kPa - 30kPa(6.0Torr-225Torr) |
| 样品台 | 一层升降 |
| 基板台类型 | 不锈钢基板台 |
| 标准衬底托 | Φ50mm，Φ50.8mm，Φ55mm |
| 有效沉积直径 | >55mm |
| 样品台升降功能 | 电动升降，升降幅度150mm |
生长可调节范围 | 0~5mm，升降速率≤0.5mm/s |
| 样品台旋转功能 | 有，可选；
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| 样品台温控范围 | < 1200℃ |
| 红外高温计测温范围 | 300 - 1400℃ |
| 非平面（球面）金刚石样品台 | 可选 |
| 系统冷却水水流量 | <40L/min |
微波源独立水路 | 可选，<10L/min |
| 操作系统 | PLC控制系统 |
| 单次连续工作时间 | >300h |
| 基板台偏压 | 可选；
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